ICP-OES MICS系列全譜直讀電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析儀器,利用性能可靠的集成固態(tài)射頻電源、穩(wěn)固的恒溫二維分光系統(tǒng)、科研級(jí)制冷防溢出CCD檢測(cè)系統(tǒng)，結(jié)合國(guó)內(nèi)領(lǐng)先的光譜校正技術(shù)，將ICP OES MICS的操作性、靈活性和可靠性發(fā)揮的超乎想象，日常操作和維護(hù)非常簡(jiǎn)單，更適合國(guó)內(nèi)一線分析實(shí)驗(yàn)的操作要求，實(shí)現(xiàn)小型化、便捷化、智能化的光譜儀。
產(chǎn)品型號(hào)：ICPOES MICS 訪問(wèn)次數(shù)：719 更新時(shí)間：2025-06-16
一、產(chǎn)品介紹
ICP-OES MICS系列全譜直讀電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析儀器利用性能可靠的集成固態(tài)射頻電源、穩(wěn)固的恒溫二維分光系統(tǒng)、科研級(jí)制冷防溢出CCD檢測(cè)系統(tǒng)，結(jié)合的光譜校正技術(shù)，將ICPOES IICS的操作性、靈活性和可靠性發(fā)揮的超乎想象，日常操作和維護(hù)非常簡(jiǎn)單，更適合分析實(shí)驗(yàn)的操作要求，實(shí)現(xiàn)小型化(miniatorization)、便捷化(Intelligentize)、智能化(Convenience)的光譜儀( Spec仕ometer )。ICP-OES MIC系列全譜直讀電感耦合等離子體發(fā)射光譜分析儀器，可廣泛應(yīng)用于環(huán)境保護(hù)、食品安全、地質(zhì)礦產(chǎn)、冶金、高色金屬、稀土、化工、||伍床醫(yī)藥、石油制昂、半導(dǎo)體、農(nóng)業(yè)研究等各個(gè)領(lǐng)域。用于測(cè)定不同物質(zhì)中的常里微里、瘦里元素含里，可用于樣目中元素的定性、半定里及精確定里分析，檢出限可達(dá)十億分之一級(jí)。
二、性能指標(biāo)
檢測(cè)器:
高效半導(dǎo)體制冷的CCD固體檢測(cè)器，在光譜儀波長(zhǎng)范圍內(nèi)具有連續(xù)像素，能任意選擇波長(zhǎng)，且具有天然的防溢出功能設(shè)計(jì)。檢測(cè)單元:大于3,000，000個(gè)檢測(cè)單元，讀取速度2Mz°
像素分辨率:<0.003rm。
檢測(cè)器制冷系統(tǒng):為獲得的檢測(cè)器暗電流，采用高效三級(jí)半導(dǎo)體制冷。
工作溫度:<-45℃，到達(dá)工作溫度的時(shí)間:く3 分鐘。
光學(xué)系統(tǒng):恒溫驅(qū)氣型中階梯分光系統(tǒng)。
單色器:中階梯光棚和棱鏡二維色散系統(tǒng)，高能里，為保證儀器測(cè)試的穩(wěn)定性，光柵和棱道等內(nèi)光路部件位置固定不動(dòng)，在光譜儀全波長(zhǎng)范圍內(nèi)一次曝光同時(shí)測(cè)定所有元素。
光室:帶精密光室恒溫38℃±0.1℃，可使用氙氣或氮?dú)膺M(jìn)行光室吹掃，測(cè)定<200nm譜線時(shí)驅(qū)氣里<3L/min。
波長(zhǎng)范圍:167-1000r，全波長(zhǎng)覆蓋。
光學(xué)分辨率(FHW):As189.042rm半峰寬<0.007nm，Ca393.366mmn半峰寬<0.017nm，Ba614.172半峰寬<0.024rm，K766.490mm半峰寬<0.035rm為保證光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和優(yōu)良的光通里，焦距為280mm。
等離子體:
等離子體觀察方式:炬管垂直放置
RF發(fā)生器:固態(tài)發(fā)生器，等離子體線圈具有聚四氟乙烯保護(hù)層設(shè)計(jì)，防腐蝕，免維護(hù)。
頻率:27.12MHZ。
RF功率多1300W。
氣路控制:配置3路高精度質(zhì)里流里控制器，由ICP-0ES軟件直接控制，包括冷卻氣、輔助氣、霧化氣。精度0.01 L/min。
蠕動(dòng)泵:5通道16滾輪蠕動(dòng)泵。
分析性能:
分析速度:>每分鐘50個(gè)元素或譜線，而且每條測(cè)里譜線的積分時(shí)間>10秒;樣品消耗量:<2ml，測(cè)定大于70個(gè)元素;
譜線靈活性:可對(duì)分析元素的任何一條譜線進(jìn)行定性、半定量和定里分析，便于分析研究。
測(cè)定譜線的線性動(dòng)態(tài)范圍:>106(以mn257.6nm 來(lái)測(cè)定，相關(guān)系數(shù)>0.9996)，提供證明材料。
內(nèi)標(biāo)校正:同時(shí)的內(nèi)標(biāo)校正，即內(nèi)標(biāo)元毒和測(cè)量元毒必須同時(shí)曝光。
精密度:測(cè)定1ppm或10ppm多元素混合標(biāo)準(zhǔn)溶液，重復(fù)測(cè)定十次的RSD0.5%。
穩(wěn)定性:測(cè)定1ppm或10ppm多元素混合標(biāo)準(zhǔn)溶液，不使用內(nèi)標(biāo)校正，連續(xù)測(cè)定4小時(shí)的長(zhǎng)時(shí)間穩(wěn)定性RSD<1.0%。
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